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基于尘埃颗粒充电效应的新型电弧离子镀技术及TiAlN薄膜工艺研究

发布时间： 2023-12-08 浏览量：22

交易方式：面议
联系电话：15045109862
单位名称或姓名：许建平
产业领域：新材料
成果类型：

项目基本情况Basic information of the project

电弧离子镀技术是一种物理气相沉积技术，大颗粒缺陷限制了其制备高质量涂层材料的应用。为了有效地对大颗粒充电，从电弧离子镀源头设计的角度，以空心阴极真空电弧作为"电子源"，将电子束直接引入至电弧离子镀靶前区域，抑制电弧离子镀技术的大颗粒缺陷，本项目提出了一种靶前区域电子束增强电弧离子镀新方法。围绕靶前区域电子束增强电弧离子镀源头研制、电子束增强电弧离子镀放电特性及大颗粒清除机理研究、TiAlN薄膜制备工艺优化等方面开展系统研究，丰富电弧离子镀相关理论，有望在电弧离子镀技术上获得一定突破，具有重要的理论意义和工程应用价值。针对放电伏安特性、涂层组织结构、膜基结合力和力学性能等系统研究，发现：（1）空心阴极真空电弧能够有效地降低电弧离子镀技术的大颗粒缺陷，有效抑制大颗粒大液滴达到89%。（2）空心阴极真空电弧能够提高电弧离子镀沉积TiAlN涂层的沉积速率，由于大颗粒和N2被进一步离化，新方法制备TiAlN涂层时沉积速率增加了高达97%。（3）空心阴极真空电弧影响电弧离子镀的放电特性，包括：增加靶表面弧斑密度，降低AIP靶放电压，最高降低至12V，降低了24%。（4）采用单一AlTi(67/33)合金靶，空心阴极真空电弧能够制备富含AlN相的AlTiN涂层。（5）新方法制备AlTiN涂层刀具减少停车更换刀具次数，延长刀具的服务寿命，具有较宽广的应用前景。（6）新方法可以拓展制备Ta-C涂层低摩擦系数涂层、TiB2超硬涂层等优质涂层。

管理团队与技术团队Management team and technical team

黑龙江工程学院

效益分析Benefit analysis

该项目为储备库项目资源，暂无效益分析内容。

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