光学器件、传感器等光学系统由于关键界面产生不必要的杂光反射导致性能受到影响，会造成光学设备的信噪比、灵敏度及可靠性的降低。超黑粉体通常作为光吸收材料，在一定范围内能够对大部分的杂散光进行吸收和消除。目前随着对光学系统稳定性及灵敏性的要求不断提高，超黑粉体的光吸收性能已无法满足要求；且常用粉体材料表面改性过程中普遍存在粉体易团聚、分散性差，造成了超黑粉体材料光吸收能力很难进一步提高的问题。因此，提供一种具有高光吸收性能且分散性好的超黑粉体，对光学传感器的消杂光、提高其信噪比、灵敏度及可靠性至关重要。本发明通过原子层沉积技术在超黑粉体表面可控沉积超薄氧化物膜层，该膜层可与炭黑表面形成稳定化学键合，提高碳纳米材料的分散性及消光性能，还可降低超黑粉体的表面能，有效解决粉体团聚所导致的光吸收性能低下的问题。一种核壳型粉体超黑材料及其制备方法。属于超黑材料技术领域。本发明解决了传统超黑粉体材料存在的粉体易团聚及可控性差的技术问题。本发明所获得的高保形、均匀的核壳结构超黑材料分散性好且光吸收性能优异，在天文摄影、侦察、空间观测、光热转换等领域具有广泛的应用前景。本发明采用原子层沉积的方式在炭黑粉体表面沉积氧化物薄膜，从而制备出一种具有高度可控、分散性好、光吸收性能优异的粉体超黑材料。原子层沉积法作为一种特殊的气相沉积方法，由于其反应的自限制特性，可在粉体表面均匀致密地覆盖原子级的薄膜，因此相比于其他传统黑色粉体改性方法存在以下优点： ①改性包覆物的厚度精确可控； ②粉体包覆薄膜具有高保形性且致密均匀； ③在粉体原位进行气相沉积生长，可避免粉体团聚； ④可通过沉积循环工艺控制精确把控各物质沉积比例、顺序及用量。 制备出的核壳型粉体超黑材料，分散性好且光吸收性能优异，具有十分广泛的应用前景。成熟程度：系统级 实际通过任务运行的成功考验； 适用范围：适用于光学器件、传感器等光学系统； 安全性：安全性极高，可对光学传感器的消杂光、提高其信噪比、灵敏度及可靠性。 本专利所提及的核壳型粉体超黑材料可应用于超黑涂层的制备，其有助于降低涂层生产成本，可优化制备工艺。

哈尔滨工业大学

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